《光学元件磁流变抛光理论与关键技术》介绍了光学元件磁流变抛光理论与关键工艺，尤其重点介绍了离轴非球面光学元件磁流变抛光关键技术。
　　《光学元件磁流变抛光理论与关键技术》首章-第6章侧重介绍磁流变抛光的理论和工艺研究，主要针对高精度光学镜面磁流变抛光过程中的去除函数多参数模型、表面与亚表面质量控制、驻留时间高精度求解与实现、修形工艺优化方法等关键问题进行深入研究和实验验证；第7章-第12章以离轴非球面光学零件的高精高效制造为需求牵引，针对离轴非球面磁流变抛光过程中的关键理论和工艺问题开展研究，旨在实现面形误差和特征量参数双重约束条件下的离轴非球面光学零件的磁流变抛光，形成基于磁流变抛光技术的加工工艺路线，从而进一步提高我国离轴非球面光学零件的制造水平。
　　《光学元件磁流变抛光理论与关键技术》可供从事机械工程和光学工程的研究人员和工程设计人员参考使用，特别是对高精度光学镜面的制造人员具有较好的参考价值。